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      產品名稱: 雙靶磁控濺射儀

      產品型號: VTC-600-2HD

      產品編號: 03050101

      瀏覽次數: 1900

      技術參數
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      VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。1、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
      2、可制備多種薄膜,應用廣泛。
      3、體積小,操作簡便。

      產品名稱 VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
      產品型號
      VTC-600-2HD
      安裝條件 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
      1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
      2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
      3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
      4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
      5、通風裝置:需要
      主要參數
      1、電源電壓:220V  50Hz
      2、功率:900W
      3、極限真空度:9.0×10-4Pa
      4、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)
      5、靶槍數量:2個(可選配其他數量)
      6、靶槍冷卻方式:水冷
      7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
      8、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇兩個直流電源,也可選擇兩個射頻電源,或選則一個直流一個射頻電源)
      9、載樣臺:?140mm,可根據客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現更高質量的鍍膜。
      10、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調
      11、工作氣體:Ar等惰性氣體
      12、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。
      產品規格

      1、主機尺寸:500mm×560mm×660mm
      2、整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm
      3、真空室規格:φ300×300mm
      4、重量:160kg

      標準配件 1直流電源控制系統1套
      2射頻電源控制系統1套
      3膜厚監測儀系統1套
      4分子泵(德國進口)1臺
      5冷水機1臺
      6冷卻水管(?6mm)4根
      可選配件

      金、銦、銀、鉑等各種靶材
      可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜

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